Diferencia entre grabado seco y húmedo

Diferencia Principal - Aguafuerte Seca vs Húmeda

El grabado es básicamente la eliminación de sustancias de las superficies. Se han inventado diferentes procesos de grabado según el material que se va a eliminar. El grabado en húmedo y el grabado en seco son tales procesos. El grabado en húmedo puede ser llamado grabado isotrópico. El grabado en seco puede ser llamado grabado anisotrópico. Estos procesos de grabado en seco y húmedo se pueden dividir según la técnica y otros factores que afectan el grabado. La principal diferencia entre el grabado seco y húmedo es que el grabado en seco se realiza en una fase líquida, mientras que el grabado en húmedo se realiza en una fase de plasma.

Áreas clave cubiertas

1. Qué es el grabado en seco
      - Definición, Técnica, Aplicaciones., Ventajas y desventajas
2. ¿Qué es el aguafuerte húmedo?
- Definición, Técnica, Aplicaciones., Ventajas y desventajas
3. ¿Cuál es la diferencia entre el grabado seco y húmedo?
      - Comparación de diferencias clave

Términos clave: Anisotrópico, Aguafuerte en seco, Aguafuerte, Isotrópico, Fase líquida, Aguafuerte por plasma, fase en plasma, Aguafuerte húmeda

Qué es el grabado en seco

El grabado en seco es el proceso de grabado realizado en fase plasmática. Aquí, las reacciones de eliminación de material ocurren en la fase gaseosa. El grabado en seco también se llama grabado con plasma. Este proceso se puede utilizar para crear patrones diseñados en superficies. El grabado en seco se puede utilizar en placas de circuito impreso. Hay dos tipos de grabado seco..

1. Grabado no basado en plasma
2. Grabado a base de plasma

El grabado no basado en plasma utiliza una reacción espontánea de una mezcla de gas reactivo apropiada. El grabado basado en plasma utiliza energía de radiofrecuencia para impulsar la reacción química. En la formación de plasma, la cámara es evacuada y llena de gas o gases. Se aplica radiofrecuencia. Esta frecuencia aplicada puede acelerar los electrones. Esto resulta en el aumento de la energía cinética dentro de la cámara. Los electrones coloidales con moléculas de gas neutro. Esto resulta en la formación de iones y más electrones. Esta ionización finalmente resulta en la formación de un plasma. (Un plasma es un sistema compuesto de números iguales de cationes y electrones junto con moléculas neutras).

Figura 1: Proceso de grabado con plasma de hidrógeno

Ventajas y desventajas

Hay muchas ventajas del proceso de grabado en seco. Elimina la necesidad de manejar productos químicos peligrosos. Utiliza pequeñas cantidades de productos químicos para el grabado. Una ventaja importante es la alta resolución y limpieza que se pueden obtener del grabado en seco. El proceso también es fácil de controlar y manejar. Aparte de eso, el grabado en seco puede ser fácilmente automatizado.

Pero también hay algunas desventajas. Por ejemplo, algunos gases que se utilizan en el grabado en seco son tóxicos y corrosivos. La nueva deposición de compuestos volátiles es un problema importante que surge cuando se usan compuestos volátiles. Este método es bastante caro porque se necesita equipo especializado..

¿Qué es el aguafuerte húmedo?

El grabado en húmedo es el proceso de grabado realizado en fase líquida. Los productos químicos utilizados para el proceso de grabado se llaman grabadores. El grabado en húmedo utiliza un baño de grabadores para el grabado. Pero este método no es muy preciso. Sin embargo, es fácil de manejar que el proceso de grabado en seco. Lo que ocurre básicamente en el grabado en húmedo es que el material que se va a eliminar se disuelve sumergiéndolo en un baño químico..

Figura 2: Baño de aguafuerte con sulfato de cobre

Ventajas y desventajas

Este es el proceso más simple que se puede utilizar para el grabado. Porque solo requiere un baño de productos químicos como solución líquida. Sin embargo, un inconveniente de este método es que un baño químico también puede disolver los materiales necesarios en la superficie. Por lo tanto, se debe utilizar un agente de enmascaramiento adecuado. O bien, deben usarse productos químicos que disuelven lentamente los materiales de la superficie (más lentos que los materiales que deben eliminarse).

Diferencia entre grabado seco y húmedo

Definición

Grabado en seco: El grabado en seco es el proceso de grabado realizado en fase plasmática..

Aguafuerte en húmedo: El grabado en húmedo es el proceso de grabado realizado en fase líquida..

Fase

Grabado en seco: El grabado en seco utiliza productos químicos de fase gaseosa.

Aguafuerte en húmedo: El grabado en húmedo utiliza productos químicos en fase líquida..

La seguridad

Grabado en seco: El grabado en seco es mucho más seguro que el grabado en húmedo.

Aguafuerte en húmedo: El grabado en húmedo no es seguro ya que la eliminación de productos químicos peligrosos puede causar la contaminación del agua.

Precisión

Grabado en seco: El proceso de grabado en seco es más preciso..

Aguafuerte en húmedo: El proceso de grabado en húmedo es menos preciso..

Uso de químicos

Grabado en seco: El grabado en seco utiliza pocos productos químicos.

Aguafuerte en húmedo: El grabado en húmedo utiliza muchos productos químicos.

Costo

Grabado en seco: El grabado en seco es caro porque se requiere equipo especializado.

Aguafuerte en húmedo: El grabado en húmedo no es muy caro porque solo necesita un baño químico.

Conclusión

El grabado en seco y en húmedo son dos tipos principales de procesos de grabado. Estos procesos son útiles para la eliminación de materiales de superficie y la creación de patrones en las superficies. La principal diferencia entre el grabado en seco y el grabado en húmedo es que el grabado en seco se realiza en una fase líquida, mientras que el grabado en húmedo se realiza en una fase de plasma.

Referencias:

 1. “Plasma Knowledge: Dry Etching”. Grabado en seco y grabado en seco vs. Grabado en húmedo, 12 de febrero de 2016, disponible aquí. Consultado el 27 de septiembre de 2017.
2. "Procesos de grabado". Memsnet, disponible aquí. Consultado el 27 de septiembre de 2017.
3. “Grabado (Microfabricación)”. Wikipedia, Wikimedia Foundation, 23 de julio de 2017, disponible aquí. Consultado el 27 de septiembre de 2017.

Imagen de cortesía:

1. “Grabado con plasma de hidrógeno” Por Pepinpeterkapichler - Trabajo propio (CC BY-SA 4.0) a través de Commons Wikimedia
2. “Baño de grabado de sulfato de cobre” Por Ck517 - Trabajo propio (Dominio público) a través de Commons Wikimedia